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產(chǎn)品特點(diǎn)
- 成熟的高產(chǎn)能工藝、雙模溫度控制技術(shù)、薄膜硅保護(hù)技術(shù)；
- 石墨舟電極技術(shù):前電極面接觸，采用石墨伸縮結(jié)構(gòu)，提高電極穩(wěn)定性，可定期更換清洗電極塊，尾電極爐管外可調(diào)，加大電極尺寸及優(yōu)化電極材料，良好解決高頻報(bào)警問(wèn)題；
- PE-POLY石墨舟采用特殊設(shè)計(jì)，減少導(dǎo)電和高頻風(fēng)險(xiǎn)；
- 爐門(mén)采用力矩平衡模式的自適應(yīng)爐門(mén)結(jié)構(gòu)，提高爐門(mén)密封性；
- 專利儲(chǔ)舟位并行散熱方式:提升降溫效果，縮短降溫時(shí)間15%以上，同時(shí)避開(kāi)底部從操作臺(tái)前面進(jìn)氣，提高操作臺(tái)內(nèi)部潔凈度；
- 快速自適應(yīng)壓力閉環(huán)控制技術(shù)；
- 等離子放電場(chǎng)檢測(cè)技術(shù)；
- 裝卸片防撞舟技術(shù)；
- 一體化工控機(jī)+模塊化工藝控制軟件；
- 全面的停電安全處理和法蘭水異常保護(hù)。
基本參數(shù)
| 項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
|---|---|
| 成膜種類 | AIO、SiN、SiON 、SiO |
裝片量 | 768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm) |
鍍膜厚均勻性 | SiOx均勻性:厚度1-3nm可調(diào)，精度0.1nm，用拋光片測(cè)試SiOx厚度；Poly均勻性:厚度50-200nm可調(diào)，精度1nm, 用拋光片測(cè)試Poly厚度，片內(nèi)≤5%;片間≤5%;批間≤4%(>100nm時(shí)) |
UP-TIME | ≥98% |
工作溫度范圍 | 100~600℃ |
溫度控制 | 9點(diǎn)控溫，內(nèi)外雙?？刂?/span> |
升溫方式 | 自動(dòng)斜率升溫及快速恒溫功能 |
降溫方式 | 最新專利技術(shù)，9溫區(qū)分段控制主動(dòng)降溫爐體 |
恒溫區(qū)精度及長(zhǎng)度 | +1°C/3200mm(500°C) |
單點(diǎn)溫度穩(wěn)定度 | <+1°C/4h(500°C) |
升溫時(shí)間 | RT→450℃≤30min |
溫度控制 | 雙模精確控制 |
系統(tǒng)極限真空度 | <3Pa |
系統(tǒng)漏氣率 | 停泵關(guān)閥后壓力升率<1Pa/min |
壓力控制方式 | 快速調(diào)整全自動(dòng)閉環(huán) |
工藝控制方式 | 工藝過(guò)程全自動(dòng)控制，多重安全連鎖報(bào)警 |
| 人機(jī)交互界面 | LCD顯示、觸摸操作、工藝編輯、在線監(jiān)控、權(quán)限管理、班組管理、組網(wǎng)功能 |
MES/CCRM | 具有 |
